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增粘劑烤箱,HMDS烘箱

增粘劑烤箱,HMDS烘箱

簡要描述:

增粘劑烤箱,HMDS烘箱將HMDS涂到LED、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

增粘劑烤箱,HMDS烘箱的重要性:

   在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。

增粘劑烤箱,HMDS烘箱的主要技術性能:

  

1設備名稱

增粘劑烤箱,HMDS烘箱

2、設備型號

JS-HMDS90

3、設備主要技術參數(shù)                                                          

3.1 工作室尺寸

 450×450×450(mm),可自定尺寸

3.2  材質

 外箱采用304不銹鋼或優(yōu)質冷軋板噴塑,內箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼

3.3 溫度范圍

 RT+10-250℃

3.4 溫度分辨率

 0.1℃

3.5 溫度波動度

 ±0.5℃

3.6 真空度

 133pa(1torr)

3.7 潔凈度

 class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境

3.8電源及總功率

 AC 220V±10% / 50HZ       總功率約2.0KW    

3.9 控制儀表

 人機界面

3.10擱板層數(shù)

 2層

3.11 HMDS加液

自動加液(可選擇)

3.11真空泵

 旋片式油泵(進口無油干泵)

3.12 保護裝置

 漏電保護,過熱保護

 

 

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